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【实用新型】一种碳化硅研磨铜盘_青岛嘉展力拓半导体有限责任公司_202123400841.6 

申请/专利权人:青岛嘉展力拓半导体有限责任公司

申请日:2021-12-30

公开(公告)日:2023-05-09

公开(公告)号:CN218984379U

主分类号:B24B37/16

分类号:B24B37/16

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.09#授权

摘要:本实用新型提出了一种碳化硅研磨铜盘,该铜盘包括若干呈同心圆设置的凹槽,所述凹槽包括内圈凹槽和外圈凹槽,所述内圈凹槽的内径小于外圈凹槽的内径设置,借此,本实用新型具有通过在铜盘上分别设置的内圈凹槽和外圈凹槽,能够减小铜盘在加工过程中的膨胀变化,从而可以延长铜盘寿命,降低生产成本,还可以提高研磨转速,进而提升衬底片移除效率的优点。

主权项:1.一种碳化硅研磨铜盘,其特征在于,该铜盘包括若干呈同心圆设置的凹槽,所述凹槽包括内圈凹槽和外圈凹槽,所述内圈凹槽的内径小于外圈凹槽的内径设置;所述内圈凹槽的个数为1,所述外圈凹槽的个数为1;铜盘的底部连接设置有底座,铜盘的上方对应设置有加压板;所述内圈凹槽与加压板的外沿对齐设置,所述外圈凹槽与加压板的中心对齐设置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 青岛嘉展力拓半导体有限责任公司 一种碳化硅研磨铜盘

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