申请/专利权人：北京理工大学

申请日：2023-02-22

公开（公告）日：2023-05-26

公开（公告）号：CN116165732A

主分类号：G02B5/00

分类号：G02B5/00;G02B3/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.06.13#实质审查的生效;2023.05.26#公开

摘要：本发明涉及微纳光学领域，公开一种微纳光学阵列结构加工方法，包括以下步骤：步骤一，在疏水平板表面加工多个开孔；步骤二，将疏水平板置于光刻胶的上方，并与光刻胶相接触，利用开孔的毛细现象使光刻胶表面对应于各个开孔的位置均形成一个球面凸起；步骤三，对光刻胶进行固化；步骤四，固化完成后，移除疏水平板；步骤五，利用光刻胶进行离子束刻蚀处理。与传统的超精密切削加工方式相比，本发明提供的微纳光学阵列结构加工方法成本更低，且加工用时更短。

主权项：1.一种微纳光学阵列结构加工方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，在疏水平板表面加工多个开孔；步骤二，将所述疏水平板置于光刻胶的上方，并与所述光刻胶相接触，利用所述开孔的毛细现象使所述光刻胶表面对应于各个所述开孔的位置均形成一个球面凸起；步骤三，对所述光刻胶进行固化；步骤四，固化完成后，移除所述疏水平板；步骤五，利用所述光刻胶进行离子束刻蚀处理。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京理工大学 一种微纳光学阵列结构加工方法

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