申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2018-02-07

公开（公告）日：2023-05-26

公开（公告）号：CN111699277B

主分类号：C23C14/56

分类号：C23C14/56;C23C14/58;C23C14/35;C23C14/02;C23C16/54;C23C16/56;C23C16/02;H01J37/32;H01J37/08;H05H1/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.26#授权;2020.10.20#实质审查的生效;2020.09.22#公开

摘要：描述一种用于涂覆基板10、10b的沉积设备100、101。所述沉积设备包括：第一卷筒腔室110，容纳用于提供所述柔性基板10的存储卷筒112；沉积腔室120，布置在所述第一卷筒腔室110的下游；和第二卷筒腔室150，布置在所述沉积腔室120的下游并容纳用于在沉积后使所述柔性基板10卷绕在上面的卷绕卷筒152。所述沉积腔室120包括涂布滚筒122，所述涂布滚筒用于引导所述柔性基板通过多个沉积单元121，所述多个沉积单元包括具有石墨靶125的至少一个沉积单元124。此外，所述沉积设备100包括处理装置160，所述处理装置被配置为在所述至少一个沉积单元的上游或下游处理所述柔性基板。所述处理装置160a、160b、160c包括线性离子源161，所述线性离子源包括电连接至提取电极168和接地电位的电源176，其中所述电源176适于在约1kHz至约500kHz范围内的频率下操作。

主权项：1.一种用于在柔性基板10上沉积层的沉积设备100，包括：-第一卷筒腔室110，容纳用于提供所述柔性基板10的存储卷筒112；沉积腔室120，布置在所述第一卷筒腔室110的下游；第二卷筒腔室150，布置在所述沉积腔室120的下游并容纳用于在沉积后使所述柔性基板10卷绕在上面的卷绕卷筒152，所述沉积腔室120包括：-涂布滚筒122，所述涂布滚筒用于引导所述柔性基板通过至少一个沉积单元，和-处理装置160，所述处理装置被配置为在所述至少一个沉积单元的上游或下游处理所述柔性基板，其中所述处理装置160包括：线性离子源161，包括：-提取盒164，所述提取盒包括等离子体产生单元166，并且具有作为提取电极168的一部分的第一线性狭缝170，所述狭缝是离子出口，设置在所述提取盒164朝向所述柔性基板10的一侧，-接地电极172，所述接地电极具有第二线性狭缝174，所述第二线性狭缝设置在所述提取盒附近并在离子的路径中的所述第一线性狭缝170的下游，-电源176，所述电源电连接至所述提取盒164和接地电位，其中所述电源176适于在1kHz至500kHz范围内的频率下操作，其中阻塞电容器178设置在所述电源176的出口与所述提取盒164之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 沉积设备、涂覆柔性基板的方法和具有涂层的柔性基板

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