申请/专利权人：南轩(天津)科技有限公司

申请日：2023-07-13

公开（公告）日：2023-10-03

公开（公告）号：CN116598252B

主分类号：H01L21/687

分类号：H01L21/687;H01L21/67;H01L21/677

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.10.03#授权;2023.09.01#实质审查的生效;2023.08.15#公开

摘要：本发明公开了一种用于硅片浸蚀均匀的旋转结构，涉及硅片浸蚀技术领域，包括一传输机构、下料机构以及用于传递的一传递机构，该传输机构包括一连接立杆，侧壁板和顶板，连接立杆的四周外围均围设有侧壁板，侧壁板的顶部竖直设有顶板，顶板的顶部设有工型支架，工型支架的内侧壁分别对撑设有连接撑杆，连接撑杆的顶端中部设有框架，框架的顶端中部设有传递的线性传递轨道，线性传递轨道的顶端中部设有下料机构，本发明的有益效果是：通过设有的连接立杆和侧壁板的板面承载，将一部分的硅片材料实现混合搅动，按照相应的电动伸缩杆的延伸升降的状态，牵引具体的交叉支架位置上的伸缩下移。

主权项：1.一种用于硅片浸蚀均匀的旋转结构，包括一传输机构（1）、下料机构（2）以及用于传递的一传递机构（3）；其特征在于：该传输机构（1）包括一连接立杆（11），侧壁板（12）和顶板（13）；所述连接立杆（11）的四周外围均围设有侧壁板（12），所述侧壁板（12）的顶部竖直设有顶板（13）；顶板（13）的顶部设有工型支架（14），所述工型支架（14）的内侧壁分别对撑设有连接撑杆（15），所述连接撑杆（15）的顶端中部设有框架（16），所述框架（16）的顶端中部设有传递的线性传递轨道（17），所述线性传递轨道（17）的顶端中部设有下料机构（2）；所述下料机构（2）包括限制支架（21），所述限制支架（21）的两端头位置铰接有传动杆（22），所述传动杆（22）的表面套接有传递履带（23），其中一传递履带（23）的一端还设有用于传动设置的履带电机（24），所述履带电机（24）的外壳位置安装有电机支架，所述电机支架的顶端中部设有驱动的线性滑动撑杆（25），所述线性滑动撑杆（25）的表面通过线性套管与中部所设的线性传递轨道（17）的表面滑动设置；安装座表面设有用于联动设置的夹持机构（6），所述夹持机构（6）包括设于线性导杆（52）的后端的放置基座（61），其中该放置基座（61）顶端中部竖直安装有用于硅片贴合放置的硅片浸蚀支架（62），且该硅片浸蚀支架（62）的顶端中部设有放置框（63）；所述放置框（63）的顶端中部设有调节垫片（64），所述调节垫片（64）的顶端中部竖直支撑有用于贴合设置的方形框（65），所述方形框（65）的上端设有浸蚀板（66），所述浸蚀板（66）的底端中部设有打磨的打磨器（67），所述打磨器（67）的顶端中部设有支撑的放置座（68），所述放置座（68）的顶端中部设有支撑的放置板；所述放置板的上端位置支撑有用于吸附旋转的吸附机构（7），其中该吸附机构（7）包括与相应的调节垫片（64）位置相对的连接垫片之间支撑设置，所述吸附机构（7）包括安装在外框支架（51）的舱内顶部四边角位置的浸蚀杆（71），位于该浸蚀杆（71）杆体中部设有用于连接的一弹簧（72），所述弹簧（72）的一端设有一连接基座（73），所述连接基座（73）的底端中部设有联动设置的套接基座（74），其中该套接基座（74）的顶端中部设有接入的连接套管（75），所述连接套管（75）的中部设有用于调节的套接管（76），该套接管（76）的两端中部设有接入的管套限制结构（77），所述管套限制结构（77）包括一环形外框（78），其中该环形外框（78）的底端中部竖直安装有一调节端联动设置；所述套接基座（74）的两端位置设有用于支撑的调节立杆（79），所述调节立杆（79）的底端的结构用于涂抹延伸剂的注入导管（791），所述注入导管（791）的底端中部设有锥形连接头（792），所述锥形连接头（792）的底端中部设置有用于联动的注液罐（793），所述注液罐（793）的底端中部设有联动的安装基座（794），所述安装基座（794）的一端设有用于联动的放置罩（795）；所述限制支架（21）顶端中部设有支撑的收缩座（796）。

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权利要求：

百度查询： 南轩(天津)科技有限公司 一种用于硅片浸蚀均匀的旋转结构

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