申请/专利权人：西安思摩威新材料有限公司

申请日：2023-11-01

公开（公告）日：2024-01-09

公开（公告）号：CN117369213A

主分类号：G03F7/038

分类号：G03F7/038;G03F7/004;G03F7/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.01.26#实质审查的生效;2024.01.09#公开

摘要：本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种柔性高折射率负性OC光刻胶、光固化图案的制备方法及应用。该光刻胶按重量份数计，包括高折射率纳米粒子5～20份，酸性光可固化单体1～10份，丙烯酸酯类光可固化单体1～20份，环氧类光可固化单体1～10份，自由基光引发剂1.5～5份，阳离子光引发剂0.01～0.1份，光敏剂为0.005～0.05份，表面活性剂0.01～0.5份，溶剂25～75份。本发明根据偶极相互作用原理，选取带极性官能团的长链丙烯酸酯单体，在保证高折射率纳米粒子不团聚的前提下，可以有效地提高配方固化后薄膜的柔性。此外，通过加入环氧类光可固化单体，可有效解决光刻胶在固化后，残余应力过大的问题。

主权项：1.一种柔性高折射率负性OC光刻胶，其特征在于，按重量份数计，包括如下原料：高折射率纳米粒子5～20份，酸性光可固化单体1～10份，丙烯酸酯类光可固化单体1～20份，环氧类光可固化单体1～10份，自由基光引发剂1.5～5份，阳离子光引发剂0.01～0.1份，光敏剂为0.005～0.05份，表面活性剂0.01～0.5份，溶剂25～75份。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西安思摩威新材料有限公司 一种柔性高折射率负性OC光刻胶、光固化图案的制备方法及应用

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