申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

申请日：2021-07-20

公开（公告）日：2024-02-06

公开（公告）号：CN113591290B

主分类号：G06F30/20

分类号：G06F30/20;G06F111/06;G06F111/10

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.06#授权;2021.11.19#实质审查的生效;2021.11.02#公开

摘要：本发明公开了一种OPC模型仿真方法，包括：步骤一、建立精度判断函数，精度判断函数由数据集中的各数据点对应的OPC模型的仿真点和晶圆上的实际点的差值的平方乘以权重后相叠加形成；步骤二、进行数据随机采样，包括：形成分布式计算节点；随机分发数据到各计算节点，同时给每个计算节点分配由各拟合参量组成的拟合参量空间的当前状态值；计算各计算节点的局部精度判断函数；步骤三、采用分布式计算节点并行计算各局部精度判断函数的梯度，计算各局部精度判断函数的梯度的一阶导数和一阶近似值；步骤四、进行梯度的合成和迭代。本发明能在光刻工艺的复杂度和拟合精度提高的条件下提高拟合效率。

主权项：1.一种OPC模型仿真方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、建立精度判断函数；所述精度判断函数的数据点包括多个，所有的所述数据点形成数据集；所述精度判断函数由所述数据集中的各所述数据点对应的OPC模型的仿真点和晶圆上的实际点的差值的平方乘以权重后相叠加形成；所述仿真点由光刻工艺的光学系统的多个光学卷积核对应的非线性拟合函数得到，所述光学卷积核的系数为拟合参量；步骤二、进行数据随机采样，包括：设置由多台计算机组成的计算集群，每台所述计算机对应于一个以上的计算节点，各所述计算节点形成分布式计算节点并能实现并行计算；采用随机分发的方式对所述数据集进行数据分配，每个所述计算节点都从所述数据集中随机抽取部分数据点进行拟合；在分配数据的同时，给每个所述计算节点分配由各所述拟合参量组成的拟合参量空间的当前状态值；计算各所述计算节点对应的局部精度判断函数，所述局部精度判断函数由所述计算节点中随机抽取的部分数据点组成的数据子集中的各所述数据点对应的仿真点和晶圆上的实际点的差值的平方乘以权重后相叠加形成；所述精度判断函数为各所述局部精度判断函数的和；步骤三、采用所述分布式计算节点并行计算各所述局部精度判断函数的梯度，所述局部精度判断函数的梯度为所述局部精度判断函数对各所述拟合参量的偏导值的叠加值；计算各所述局部精度判断函数的梯度的一阶导数和一阶近似值，所述局部精度判断函数的梯度的一阶导数为所述局部精度判断函数的梯度对各所述拟合参量的偏导值的叠加值；所述计算节点的梯度的一阶近似值为根据所述局部精度判断函数的梯度的一阶导数计算得到的所述局部精度判断函数的梯度的一阶展开值；步骤四、进行梯度的合成和迭代；所述梯度的合成包括：根据当前状态的所述精度判断函数的梯度和所述计算节点的梯度的一阶近似值进行计算得到合成后的所述精度判断函数的梯度；对所述拟合参量空间进行优化，包括：根据所述拟合参量空间的当前状态值和合成后的所述精度判断函数的梯度进行计算得到所述拟合参量空间的优化值；采用所述拟合参量空间的优化值作为所述拟合参量空间的当前状态值以及采用合成后的所述精度判断函数的梯度作为当前状态的所述精度判断函数，之后重复进行步骤二、步骤三和步骤四直至所述精度判断函数的值达到拟合精度。

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权利要求：

百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 OPC模型仿真方法

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