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【发明公布】一种LPCVD路线正面poly方法_宜宾英发德耀科技有限公司_202311547704.6 

申请/专利权人:宜宾英发德耀科技有限公司

申请日:2023-11-20

公开(公告)日:2024-02-20

公开(公告)号:CN117577737A

主分类号:H01L31/18

分类号:H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/068

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.08#实质审查的生效;2024.02.20#公开

摘要:本申请实施例涉及光伏电池的技术领域,具体而言,涉及一种LPCVD路线正面poly方法,包括:在对硅片湿法化学处理后进行硼扩散形成BSG层;对所述硅片进行背抛;利用正面所述BSG层作为掩膜进行磷扩散;去除表面氧化层;通过LPCVD工艺在表面形成薄膜;在正面进行图形化印刷并进行热推进;制备表面掩膜;削减poly层;在所述硅片正面形成AlOSiN镀膜,背面形成SiN镀膜;制备两侧电极,通过本申请的poly方法形成的结构,避免了电池的上表面金属电极与硅基体直接接触,导致电池产生载流子复合,提高了电池的效率。

主权项:1.一种LPCVD路线正面poly方法,其特征在于,所述方法包括:S1、在对硅片湿法化学处理后进行硼扩散形成BSG层;S2、对所述硅片进行背抛;S3、利用正面所述BSG层作为掩膜进行磷扩散;S4、去除表面氧化层;S5、通过LPCVD工艺在表面形成薄膜;S6、在正面进行图形化印刷并进行热推进;S7、制备表面掩膜;S8、削减poly层;S10、在所述硅片正面形成AlOSiN镀膜,背面形成SiN镀膜;S11、制备两侧电极。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 宜宾英发德耀科技有限公司 一种LPCVD路线正面poly方法

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