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【发明公布】像素界定层制备方法_德山新勒克斯有限公司_202310975819.9 

申请/专利权人:德山新勒克斯有限公司

申请日:2023-08-04

公开(公告)日:2024-02-23

公开(公告)号:CN117590706A

主分类号:G03F7/30

分类号:G03F7/30;H10K59/12;H10K59/123;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/40

优先权:["20220819 KR 10-2022-0103911"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.02.23#公开

摘要:本发明的目的在于,实现颜色清晰,使显示器提高可靠性及延长寿命。即,在显影步骤,水洗部清除不足而留有残渣时,残渣会成为黑斑或像素关闭的诱因,鉴于此,本发明可以使显影的温度和时间达到最佳,以形成没有残渣的像素。并且,实施后烘处理后,面板上脱气量达到15ppm以上时,会导致像素收缩,这会引起亮度的降低以及寿命的缩短,鉴于此,本发明使显影步骤形成干净像素,进一步,使后烘处理步骤发生足够的烟雾,将面板状态下脱气的发生达到最少,以使后烘处理工艺完毕后的脱气量达到最少。

主权项:1.一种像素界定层制备方法,其特征在于:包括:感光性组合物的涂布及涂层;预烘处理;曝光;显影;及后烘处理步骤,所述显影步骤的实施温度为19℃至27℃,所述显影步骤的实施时间为30秒至90秒,实施显影步骤后的厚度为1.70μm至1.90μm,实施显影步骤后,像素中无残膜,面板上发生的脱气量为110ppm以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 德山新勒克斯有限公司 像素界定层制备方法

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