申请/专利权人：核工业北京化工冶金研究院

申请日：2023-11-23

公开（公告）日：2024-03-01

公开（公告）号：CN117631006A

主分类号：G01T1/208

分类号：G01T1/208;G01T1/167

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要：本发明提供了一种氡钍射气连续监测方法，涉及辐射防护领域，方法包括：当待测气体经过氡钍射气连续监测装置，获取第一闪烁室以及第二闪烁室的刻度系数、第一脉冲计数以及第二脉冲计数；利用射性子体遗留物影响估算方法，根据所述刻度系数、所述第一脉冲技术以及所述第二脉冲计数反推所述待测气体中放射性核素浓度；所述放射性核素浓度包括氡气浓度以及钍射气浓度。本发明能够精准测量出待测气体中放射性核素浓度。

主权项：1.一种氡钍射气连续监测方法，包括：当待测气体经过氡钍射气连续监测装置，获取第一闪烁室以及第二闪烁室的刻度系数、第一脉冲计数以及第二脉冲计数；所述氡钍射气连续监测装置包括：依次连接的过滤器、流量计、第一闪烁室、延迟器以及第二闪烁室；每台闪烁室均通过一个光电倍增管连接一个放大电路；所述放大电路与单片机相连接；所述单片机还与计算机相连接；待测气体经过所述过滤器，去除所有氡子体以及钍射气子体；所述流量计监测所述待测气体的流量；仅含有氡气与钍射气的待测气体进入到所述第一闪烁室中，所述单片机记录下所述第一闪烁室内第一设定时间内的第一脉冲计数；含有氡气与钍射气的的待测气体进入所述延迟器中停留，使得钍射气完全衰变，保留未衰变的氡气；所述未衰变的氡气进入所述第二闪烁室发生衰变，所述单片机记录下第二时间内的第二脉冲计数；所述计算机根据所述待测气体的流量、所述第一脉冲计数以及所述第二脉冲计数反推所述待测气体中放射性核素浓度；所述放射性核素浓度包括氡气浓度以及钍射气浓度；利用射性子体遗留物影响估算方法，根据所述刻度系数、所述第一脉冲技术以及所述第二脉冲计数反推所述待测气体中放射性核素浓度；所述放射性核素浓度包括氡气浓度以及钍射气浓度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 核工业北京化工冶金研究院 一种氡钍射气连续监测方法

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