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【发明公布】一种含巴比妥类结构的化合物及其制备方法与应用_武汉大学_202311555872.X 

申请/专利权人:武汉大学

申请日:2023-11-17

公开(公告)日:2024-03-01

公开(公告)号:CN117624062A

主分类号:C07D239/66

分类号:C07D239/66;C07D239/60;C07D403/06;C07D403/14;C08F2/48

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要:本发明公开了一种含巴比妥类结构的化合物及其制备方法与应用,所述含巴比妥类结构的化合物的结构式如下,所述方法包括:在惰性气体保护下,将芳香醛类化合物溶解于有机溶剂中,加入巴比妥酸或其衍生物混匀,并加入碱作为催化剂于室温下反应,经后处理后得到。该化合物可作为光引发剂,在可见光区展现出强的吸收和高的摩尔消光系数,且合成方法简单,储存稳定性好,对丙烯酸酯树脂表现出高的引发效率和良好的光漂白能力。

主权项:1.一种含巴比妥类结构的化合物,其特征在于,所述含巴比妥类结构的化合物的结构式如下: 其中,R1包括如下基团中的一种: R4选自乙基、丙基、环丙基,R5、R6和R7选自: R8选自: R10选自甲基、乙基、丙基、异丙基、烯丙基;R11选自氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、异辛基、乙烯基、烯丙基或苯基;R12选自甲基、乙基、丙基、或丁基;R13选自氢、甲基、乙基、丙基、丁基或烯丙基;R2选自如下所示基团中的一种: R9选自甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、正己基;R3为氧或硫。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉大学 一种含巴比妥类结构的化合物及其制备方法与应用

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