申请/专利权人：长飞光纤光缆股份有限公司;湖北光谷实验室

申请日：2023-12-13

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：CN117660943A

主分类号：C23C16/511

分类号：C23C16/511;C23C16/52;C23C16/44;C23C16/40

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.26#实质审查的生效;2024.03.08#公开

摘要：本发明涉及一种PCVD工艺均匀沉积装置及方法，该装置包括有同轴对应安设在床身两侧的旋转密封夹头，两侧的旋转密封夹头与同步旋转驱动装置相连，在两个旋转密封夹头之间设置有微波谐振腔，两个旋转密封夹头包括进气旋转密封夹头和排气旋转密封夹头，进气旋转密封夹头通过进气管与原料气源相连通，所述的排气旋转密封夹头通过排气管与真空泵抽气系统相连通，其特征在于所述的排气管旁接一个辅助排气管，所述的辅助排气管通过串接电控阀与辅助真空泵抽气装置相连通。本发明通过增加间断的抽气能有效改善PCVD工艺沉积的轴向均匀性，从而提高沉积芯棒的有效棒长和沉积衬管质量。

主权项：1.一种PCVD工艺均匀沉积装置，包括有同轴对应安设在床身两侧的旋转密封夹头，两侧的旋转密封夹头与同步旋转驱动装置相连，在两个旋转密封夹头之间设置有微波谐振腔，微波谐振腔与轴向往复移动装置相连接，微波谐振腔安设在保温炉中，所述的两个旋转密封夹头包括进气旋转密封夹头和排气旋转密封夹头，所述的进气旋转密封夹头通过进气管与原料气源相连通，所述的排气旋转密封夹头通过排气管与真空泵抽气系统相连通，其特征在于所述的排气管旁接一个辅助排气管，所述的辅助排气管通过串接电控阀与辅助真空泵抽气装置相连通。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长飞光纤光缆股份有限公司;湖北光谷实验室 一种PCVD工艺均匀沉积装置及方法

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