买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】一种可调控陷阱的超长余辉材料及其制备方法和应用_西安建筑科技大学_202311611074.4 

申请/专利权人:西安建筑科技大学

申请日:2023-11-29

公开(公告)日:2024-03-08

公开(公告)号:CN117304922B

主分类号:C09K11/59

分类号:C09K11/59;C09K11/66

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.08#授权;2024.01.16#实质审查的生效;2023.12.29#公开

摘要:本发明属于无机荧光材料技术领域,公开一种可调控陷阱的超长余辉材料及其制备方法和应用;所述超长余辉材料,以X2MgY2O7为基质材料,通过掺杂引入掺杂激活离子源M获得,其化学表达式为X2MgY2O7:xM;其中,X为Ba2+和Sr2+中的一种或两种;Y为Si4+和Ge4+中的一种或两种;M为稀土金属离子和过渡金属离子中的一种或多种;x为掺杂激活离子源M占基质中Y的摩尔百分比,且0<x≤10%。本发明通过调控带隙工程及陷阱工程获得的超长余辉材料,采用传统的高温固相法制备,其制备工艺简单、产量大、成本较低等优点。

主权项:1.一种可调控陷阱的超长余辉材料,其特征在于,以Sr2MgSiGeO7为基质材料,通过掺杂引入掺杂激活离子源M获得;且所述超长余辉材料的化学表达式为Sr2MgSiGeO7:xM;其中,x为掺杂激活离子源M占基质中Y的摩尔百分比;Y为Si4+和Ge4+;Sr2MgSiGeO7:xM为Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Mn,0.5%Dy、Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Mn、Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Dy、Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Mn,0.5%Y、Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Mn,0.5%Nd、Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Mn,0.5%Ce和Sr2MgSiGeO7:0.5%Eu,0.5%Mn,0.5%Gd中的任意一种。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安建筑科技大学 一种可调控陷阱的超长余辉材料及其制备方法和应用

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。