申请/专利权人：广州国家实验室

申请日：2023-07-26

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN220584429U

主分类号：G02B3/14

分类号：G02B3/14;G02B26/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权

摘要：本实用新型实施例提供了一种调节光线出射路径的光学系统、焦距调节装置及光学成像装置，所述光学系统包括：至少一个可形变的腔室以及致动调节元件；其中，所述可形变的腔室响应于所述致动调节元件的调节控制，使得光学系统的类型和焦距中的至少之一发生变化。本实用新型可调节光线出射路径的光学系统，可以实现自由控制流体变焦，满足不同场合的应用需求，并且光学系统的球差得到有效降低，成像质量得到显著提升。

主权项：1.一种调节光线出射路径的光学系统，其特征在于，所述光学系统包括：至少一个可形变的腔室以及致动调节元件；其中，所述可形变的腔室响应于所述致动调节元件的调节控制，使得光学系统的类型和焦距中的至少之一发生变化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 广州国家实验室 调节光线出射路径的光学系统、焦距调节装置及光学成像装置

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