申请/专利权人：昕诺飞控股有限公司

申请日：2022-07-18

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117716796A

主分类号：H05B45/20

分类号：H05B45/20

优先权：["20210727 EP 21187840.0"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.15#公开

摘要：本发明提供了一种光产生系统1000，其包括：i光产生设备100，其被配置为产生具有可控辐射通量和可控光谱功率分布的设备光101；以及ii控制系统300，其被配置为控制设备光101的辐射通量和光谱功率分布；其中：A设备光101的比率BY被定义为设备光101在450‑500nm波长范围内的辐射通量与设备光101在550‑600nm波长范围内的辐射通量的比率；B在光产生系统1000的第一操作模式中，控制系统300被配置为从第一设备光设置改变到不同于第一设备光设置的第二设备光设置；C第一设备光设置和第二设备光设置选自：a高辐射通量第一设置S1，其中设备光101是具有第一辐射通量I1和第一BY比率R1的第一光；以及b低辐射通量第二设置S2，其中设备光101是具有第二辐射通量I2和第二BY比率R2的第二光；并且DI2I1，并且R1R2。

主权项：1.一种光产生系统1000，包括：i光产生设备100，被配置为产生具有可控辐射通量和可控光谱功率分布的设备光101，和ii控制系统300，被配置为控制所述设备光101的所述辐射通量和所述光谱功率分布；其中：-所述设备光101的比率BY被定义为所述设备光101在450nm至500nm波长范围内的辐射通量与所述设备光101在550nm至600nm波长范围内的辐射通量的比率；-在所述光产生系统1000的第一操作模式中，所述控制系统300被配置为从第一设备光设置改变到不同于所述第一设备光设置的第二设备光设置；-所述第一设备光设置和所述第二设备光设置选自：a高辐射通量第一设置S1，其中所述设备光101是具有第一辐射通量I1和第一BY比率R1的第一光；以及b低辐射通量第二设置S2，其中所述设备光101是具有第二辐射通量I2和第二BY比率R2的第二光；-I2I1，并且R1R2；-在光产生系统1000的第二操作模式中，所述控制系统300还被配置为从第三设备光设置改变到不同于所述第三设备光设置的第四设备光设置；-所述第三设备光设置和所述第四设备光设置选自：a高辐射通量第三设置S3，其中所述设备光101是具有第三辐射通量I3和第三BY比率R3的第三光；以及b低辐射通量第四设置S4，其中所述设备光101是具有第四辐射通量I4和第四BY比率R4的第四光；以及-I4I3，并且R3R4。

全文数据：

权利要求：

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