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【发明公布】一种缓解主流厌氧氨氧化工艺中抗生素压力的方法_杭州师范大学_202311710563.5 

申请/专利权人:杭州师范大学

申请日:2023-12-13

公开(公告)日:2024-03-15

公开(公告)号:CN117699971A

主分类号:C02F3/28

分类号:C02F3/28

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要:本发明公开了一种缓解主流厌氧氨氧化工艺中抗生素压力的方法,使主流厌氧氨氧化反应器内水层DO浓度为0.3~1.2mg·L‑1,污泥层DO浓度为0.1~0.4mg·L‑1。采用本发明方法,可有效减轻抗生素对主流厌氧氨氧化的抑制作用。本发明为低温条件下厌氧氨氧化污泥受到抗生素抑制的问题提供了解决方案。本发明具有操作简便、成本低等优点,为厌氧氨氧化工艺的稳定运行提供了新的方法与思路。

主权项:1.一种缓解主流厌氧氨氧化工艺中抗生素压力的方法,其特征在于,使主流厌氧氨氧化反应器内水层DO浓度为0.3~1.2mg·L-1优选0.35~1.1mg·L-1,进一步优选0.35~0.75mg·L-1,污泥层DO浓度为0.1~0.4mg·L-1优选0.11~0.35mg·L-1,进一步优选0.11~0.17mg·L-1。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 杭州师范大学 一种缓解主流厌氧氨氧化工艺中抗生素压力的方法

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