申请/专利权人：广州鑫铂颜料科技有限公司

申请日：2023-06-06

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN116626796B

主分类号：G02B5/22

分类号：G02B5/22;G02B5/28;G02B27/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.15#授权;2023.09.08#实质审查的生效;2023.08.22#公开

摘要：本发明属于光学薄膜制备技术领域，本发明公开了一种大角度入射范围长波通滤光片及其制备方法。本发明所述长波通滤光片包括基板、第一膜结构、第二膜结构和金刚石薄膜。本发明通过在第一膜结构和基板所组成的复合层与第二膜结构之间设置金刚石薄膜，所述金刚石薄膜经过特殊的处理后可以替代胶合材料，金刚石薄膜具有优异的光学特性可以避免使用胶合材料造成长波通滤光片光学特性下降的问题；同时本发明还在表面设置不具备微孔结构的金刚石薄膜，在不影响长波通滤光片光学特性的基础上可以显著提高长波通滤光片的机械强度，保证长波通滤光片在恶劣环境下可以正常使用。

主权项：1.一种大角度入射范围长波通滤光片的制备方法，其特征在于，大角度入射范围长波通滤光片包括基板、第一膜结构、第二膜结构和金刚石薄膜；所述基板为硅片；所述第一膜结构包括由高折射率材料和低折射率材料组成的第一光学膜和金刚石薄膜；所述第二膜结构包括由高折射率材料组成的第二光学膜、由高折射率材料和低折射率材料组成的第三光学膜和金刚石薄膜；所述长波通滤光片顺次设置金刚石薄膜、第一光学膜、基板、金刚石薄膜、第二光学膜、第三光学膜和金刚石薄膜；所述第一膜结构包括CaHbLS，其中，C为金刚石薄膜，H为高折射率材料，L为低折射率材料，S为基板，a和b为14波长的光学厚度；所述第二膜结构包括CcHdHeLC，其中，C为金刚石薄膜，H为高折射率材料，L为低折射率材料，c、d和e为14波长的光学厚度；所述高折射率材料为Ge；所述低折射率材料为ZnS；使用傅里叶分光光度计进行光谱特性检测，所述长波通滤光片的光透过率为82％，且增透后平均透过率达到了91.2％；在截止区内光透过率为0.34％；所述大角度入射范围长波通滤光片的制备方法，包括如下步骤：在基板的下表面沉积金刚石薄膜，沉积完成后依次制备第二光学膜和第三光学膜；在基板的上表面制备第一光学膜；在第一光学膜和第二光学膜的表面沉积金刚石薄膜；得到所述长波通滤光片；所述在基板的下表面沉积金刚石薄膜前，对基板的下表面进行预处理；所述预处理的步骤为：用金刚石粉末对基板的下表面进行研磨处理；所述金刚石粉末的粒径为0.2～0.4μm；所述研磨的时间为30～40min；所述沉积所用碳源为甲烷、乙醇和苯甲醚；所述甲烷、乙醇和苯甲醚的体积比为2～4:2～3:0.02～0.05；所述碳源的流速为40～60sccm；沉积时，所述基板的下表面温度为700～800℃；所述沉积的气压为5～7kPa，沉积的时间为1～2h；制备第一光学膜、第二光学膜和第三光学膜时，所述制备步骤为：构建光学膜系结构；计算优化所述光学膜系结构在参考波长的透过率，获得优化后的光学膜系结构；制备具有所述优化后的光学膜系结构的薄膜，获得光学膜。

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