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【发明授权】接合膜、晶片加工用胶带、接合体的制造方法、接合体及贴合体_古河电气工业株式会社_202080047771.X 

申请/专利权人:古河电气工业株式会社

申请日:2020-07-01

公开(公告)日:2024-03-15

公开(公告)号:CN114051522B

主分类号:C09J7/30

分类号:C09J7/30;C09J101/28;C09J9/02;C09J171/02;H01L23/488;H01L21/60;H01L21/683

优先权:["20190716 JP 2019-131050"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.15#授权;2022.03.04#实质审查的生效;2022.02.15#公开

摘要:本发明提供连接耐热性充分且可靠性高,而且无关于半导体元件的电极种类,与基板的接合良好,接合工序简易的接合膜、晶片加工用胶带、接合体的制造方法、接合体及贴合体。一种用于将半导体元件2与基板40接合的接合膜13,其特征在于,具有:包含金属微粒P的导电性糊料成形为膜状而成的导电性接合层13a,以及具有初粘性且层叠于导电性接合层13a的初粘层13b,相对于导电性接合层13a内的金属微粒P,初粘层13b含有0.1质量%~1.0质量%的金属微粒M,上述金属微粒M的熔点为250℃以下。

主权项:1.一种接合膜,其是用于将半导体元件与基板接合的接合膜,其具有:包含金属微粒P的导电性糊料成形为膜状而成的导电性接合层,以及具有初粘性且层叠于所述导电性接合层的初粘层,相对于所述导电性接合层内的所述金属微粒P,所述初粘层含有0.1质量%~1.0质量%的金属微粒M,所述金属微粒M的熔点为250℃以下,所述金属微粒P含有铜或银,所述金属微粒M含有锡,所述初粘层含有选自聚甘油、甘油脂肪酸酯、聚甘油脂肪酸酯、膦类、亚磷酸酯类、硫化物类及亚砜类中的1种或2种以上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 古河电气工业株式会社 接合膜、晶片加工用胶带、接合体的制造方法、接合体及贴合体

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