申请/专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

申请日：2023-08-04

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN220603844U

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.15#授权

摘要：本实用新型公开了一种掩模版冷却装置及光刻设备，应用于光刻技术领域，包括：第一掩模版冷却装置和第二掩模版冷却装置；第一掩模版冷却装置包括气体喷射装置，用于喷射气体至掩模版的表面的第一区域；第二掩模版冷却装置包括冷却板和冷却板伸缩装置；冷却板伸缩装置与冷却板连接，用于当使用冷却板时，使冷却板伸出覆盖掩模版的表面的第二区域；当不使用冷却板时，使冷却板收回；第二区域是掩模版的同一表面除第一区域外的区域。本实用新型在第一掩模版冷却装置通过气冷循环对掩模版进行冷却的基础上，添加了第二掩模版冷却装置通过冷却板对掩模版进行冷却。与传统冷却方式相比减少了吹扫冷却空间，增加了掩模版冷却效率，减弱了气体对光的扰流。

主权项：1.一种掩模版冷却装置，其特征在于，包括：第一掩模版冷却装置和第二掩模版冷却装置；所述第一掩模版冷却装置包括气体喷射装置，用于喷射气体至掩模版的表面的第一区域；所述第二掩模版冷却装置包括冷却板和冷却板伸缩装置；所述冷却板伸缩装置与所述冷却板连接，用于当使用所述冷却板时，使所述冷却板伸出覆盖所述掩模版的表面的第二区域；当不使用所述冷却板时，使所述冷却板收回；所述第二区域是所述掩模版的同一表面除所述第一区域外的区域。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 一种掩模版冷却装置及光刻设备

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