申请/专利权人：西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司

申请日：2023-12-19

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117718888A

主分类号：B24B53/017

分类号：B24B53/017;B24B37/005;B24B49/12

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明提供了一种抛光垫清洗装置和抛光垫清洗方法，涉及半导体技术领域，所述抛光垫清洗装置包括：固定支架；通过连接臂与固定支架连接的清洁喷嘴，清洁喷嘴能够围绕固定支架转动，在清洁喷嘴转动至上抛光垫和下抛光垫之间时，清洁喷嘴用于向上抛光垫和下抛光垫喷射清洁液；与清洁喷嘴固定连接的检测组件，检测组件包括发射组件和接收组件，发射组件用于向下抛光垫发射检测信号，接收组件用于接收经过下抛光垫或硅片载盘反射的检测信号；处理器，用于获取检测信号的反射结果，根据反射结果确定检测信号是由下抛光垫反射还是由硅片载盘反射。本发明方案，可以使得清洁液全部被喷射到上抛光垫和下抛光垫上，保证清洁效果。

主权项：1.一种抛光垫清洗装置，应用于双面抛光设备，所述双面抛光设备包括相对设置的上定盘和下定盘，所述上定盘朝向所述下定盘的一侧设置有上抛光垫，所述下定盘朝向所述上定盘的一侧设置有下抛光垫，所述下抛光垫上设置多个硅片载盘，其特征在于，所述抛光垫清洗装置包括：设置于所述下抛光垫一侧的固定支架；通过连接臂与所述固定支架连接的清洁喷嘴，所述清洁喷嘴能够围绕所述固定支架转动，在所述清洁喷嘴转动至所述上抛光垫和所述下抛光垫之间时，所述清洁喷嘴用于向所述上抛光垫和所述下抛光垫喷射清洁液；与所述清洁喷嘴固定连接的检测组件，所述检测组件包括发射组件和接收组件，所述发射组件用于向所述下抛光垫发射检测信号，所述接收组件用于接收经过所述下抛光垫或所述硅片载盘反射的检测信号；处理器，用于获取所述检测信号的反射结果，根据所述反射结果确定所述检测信号是由所述下抛光垫反射还是由所述硅片载盘反射。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 抛光垫清洗装置和抛光垫清洗方法

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