申请/专利权人:西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日:2023-12-15
公开(公告)日:2024-03-19
公开(公告)号:CN117718887A
主分类号:B24B53/017
分类号:B24B53/017;B24B53/12;B24B37/34
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开
摘要:本发明涉及一种抛光垫修整装置,双面研磨装置包括上定盘和下定盘,以及位于上定盘上的抛光垫和下定盘上的抛光垫,所述抛光垫修整装置用于对上定盘上的抛光垫和下定盘上的抛光垫进行修整,所述抛光垫修整装置包括能够置于下定盘的相邻两个游星轮之间的条形本体,所述条形本体包括:条形基底,在其厚度方向上具有相对设置的第一侧面和第二侧面;两层修整结构层层,分别设置于所述基底的所述第一侧面和所述第二侧面;清洗结构,包括位于所述条形基底内的通孔,分别位于所述第一侧面和所述第二侧面的多个喷嘴,以及通过所述通孔为所述喷嘴提供高压清洁液的清洁液提供部。本发明还涉及一种抛光垫修整方法。
主权项:1.一种抛光垫修整装置,双面研磨装置包括上定盘和下定盘,以及位于上定盘上的抛光垫和下定盘上的抛光垫,所述抛光垫修整装置用于对上定盘上的抛光垫和下定盘上的抛光垫进行修整,其特征在于,所述抛光垫修整装置包括能够置于下定盘的相邻两个游星轮之间的条形本体,所述条形本体包括:条形基底,在所述条形基底的厚度方向上具有相对设置的第一侧面和第二侧面;两层修整结构层,分别设置于所述条形基底的所述第一侧面和所述第二侧面;清洗结构,包括位于所述条形基底内的通孔,分别位于所述第一侧面和所述第二侧面的多个喷嘴,以及通过所述通孔为所述喷嘴提供清洁液的清洁液提供部。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 抛光垫修整装置和抛光垫修整方法
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