申请/专利权人：深圳晶源信息技术有限公司

申请日：2023-12-29

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117724303A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明涉及计算光刻技术领域，具体涉及一种光刻模型建立方法、系统以及版图图形修正方法，一种光刻模型建立方法包括以下步骤：提供一初始版图，获取初始版图的初始测量位置，并获取初始版图经过光刻胶曝光显影后光刻胶轮廓的实际测量位置；基于初始测量位置与实际测量位置相符的数据构建初始光刻模型；对初始测量位置进行修改，并利用初始光刻模型获取初始测量位置与实际测量位置误差值；基于误差值对初始测量位置进行矫正并建立目标光刻模型，解决了现有技术中建立的光刻模型准确性较低的技术问题。

主权项：1.一种光刻模型建立方法，其特征在于，包括：提供一初始版图，获取初始版图的初始测量位置，并获取初始版图经过光刻胶曝光显影后光刻胶轮廓的实际测量位置；基于初始测量位置与实际测量位置相符的数据构建初始光刻模型；对初始测量位置进行修改，并利用初始光刻模型获取初始测量位置与实际测量位置的误差值；基于误差值对初始测量位置进行矫正并建立目标光刻模型。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳晶源信息技术有限公司 一种光刻模型建立方法、系统以及版图图形修正方法

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