申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2019-09-18

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN110908242B

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/20

优先权：["20180918 JP 2018-173598"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2020.04.17#实质审查的生效;2020.03.24#公开

摘要：本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的猝灭剂的抗蚀剂组合物提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU，而不管其为正色调的还是负色调的。

主权项：1.抗蚀剂组合物，其包含含有具有式1的锍盐的猝灭剂： 其中，R1为单键或可以含有醚键、酯键或羟基的C1-C20二价脂族烃基，所述C1-C20二价脂族烃基选自直链的烷烃二基、支链的烷烃二基、环状烷烃二基、和二价不饱和脂族烃基，R2为单键，L1为酯键、醚键或酰胺键，L2为单键、酯键、醚键或酰胺键，L3为单键，R3为羟基、氟、氯、溴、氨基或为-NR3A-C＝O-R3B或-NR3A-C＝O-O-R3B，其中R3A为氢或C1-C6烷基，R3B为C1-C16烷基，其可以含有卤素，R4为C1-C20烷基，R5为可以含有杂原子的一价烃基，在r＝1的情况下，两个R5可以相同或不同并且可以键合在一起以与它们所连接的硫原子形成环，所述一价烃基选自C1-C20烷基、C2-C20烯基、C2-C24炔基、C6-C20芳基、C7-C20芳烷基及其组合，在这些基团中，部分或全部氢可以被羟基结构部分、羧基结构部分、卤素、氰基结构部分、氨基结构部分、硝基结构部分、含磺内酯环的结构部分、砜结构部分或含锍盐的结构部分取代，或者醚键、酯键、羰基结构部分、硫键、磺酰基结构部分或酰胺结构部分可以插入碳碳键中，X-为羧酸阴离子、酰胺酸阴离子、不含氟的磺酸阴离子或卤素离子，m为1至5的整数，n为0至3的整数，m+n之和为1至5，p为0或1，q为0至4的整数，和r为1至3的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 抗蚀剂组合物和图案化方法

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