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【发明授权】气体处理方法和气体处理装置_株式会社力森诺科_202080032955.9 

申请/专利权人:株式会社力森诺科

申请日:2020-07-16

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN113784776B

主分类号:B01D53/04

分类号:B01D53/04

优先权:["20190806 JP 2019-144440"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.19#授权;2023.05.26#著录事项变更;2023.05.26#专利申请权的转移;2021.12.28#实质审查的生效;2021.12.10#公开

摘要:本发明提供一种能有效去除溴氟乙烯的气体处理方法和气体处理装置。通过使含有溴氟乙烯的气体,在0℃以上且低于120℃的温度环境下接触具有平均细孔径0.4nm以上4nm以下的细孔的吸附剂7,使溴氟乙烯吸附于吸附剂7,而从前述气体中分离溴氟乙烯。

主权项:1.一种气体处理方法,其通过使含有溴氟乙烯的气体在0℃以上且低于120℃的温度环境下接触具有平均细孔径为0.4nm以上且4nm以下的细孔的吸附剂,使所述溴氟乙烯吸附于所述吸附剂,而从所述气体中分离所述溴氟乙烯。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社力森诺科 气体处理方法和气体处理装置

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