申请/专利权人：中国电子科技集团公司第十一研究所

申请日：2021-11-24

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN114300572B

主分类号：H01L31/18

分类号：H01L31/18

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2022.04.26#实质审查的生效;2022.04.08#公开

摘要：本发明公开了一种热处理装置及方法，包括，加热炉和反应釜；所述加热炉，具有与所述反应釜相匹配的第一腔体；所述反应釜，形状与所述腔体匹配，具有第一空间，所述第一空间内设置有汞源、支撑杆和样品支架；所述反应釜，设置有进气口和出气口，所述进气口和所述出气口上连接有管路，用于在进行热处理时，提供所需气体；所述汞源，与所述支撑杆连接，用于在进行热处理时，为样品提供汞蒸气；所述支撑杆，与所述汞源连接，并由所述第一空间内部向外延伸；所述样品支架，用于盛放所述样品，且位置与所述汞源相对应。本公开的热处理装置结构简单，并且不需要多个加热区。

主权项：1.一种热处理装置，其特征在于，包括，加热炉和反应釜；所述加热炉，具有与所述反应釜相匹配的第一腔体；所述反应釜，形状与所述腔体匹配，具有第一空间，所述第一空间内设置有汞源、支撑杆和样品支架；所述反应釜，设置有进气口和出气口，所述进气口和所述出气口上连接有管路，用于在进行热处理时，提供所需气体；所述汞源，与所述支撑杆连接，用于在进行热处理时，为样品提供汞蒸气；所述支撑杆，与所述汞源连接，并由所述第一空间内部向外延伸；所述样品支架，用于盛放所述样品，且位置在所述汞源的正下方；所述支撑杆，其内为中空结构，其延伸出所述第一空间的外部设置有进水口和出水口，用于在进行热处理时，为样品提供冷却循环水；还包括样品保护壳，所述样品保护壳，用于在所述样品放置在所述样品支架上之后，遮罩所述样品支架，四周具有通气孔，以在进行热处理时，提高样品的汞压的均匀性；所述反应釜，其与所述加热炉不接触的外壁上设置有卡槽，所述卡槽用于与外设的卡钳配合，以在进行热处理后，利用外设的卡钳配合所述卡槽将所述反应釜抽离所述第一腔体；所述进气口和所述出气口连接的管路上设置有阀门，关闭所述阀门的情况下，所述第一空间形成密闭空间，通过所述阀门控制所述进气口和所述出气口通入的气体压力，与样品热处理过程中的汞蒸气，一起控制反应釜内部的压力；所述支撑杆通过连接杆与所述汞源连接；所述连接杆，其长度可调，以实现改变所述汞源到所述样品支架之间的距离，控制两者的温度差。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国电子科技集团公司第十一研究所 一种热处理装置及方法

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