申请/专利权人：中山市三美高新材料技术有限公司

申请日：2021-11-30

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN114114854B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2022.03.18#实质审查的生效;2022.03.01#公开

摘要：本发明公开了一种遮蔽装置，遮蔽装置包括：底座，设置有工件安置位；遮蔽件，可拆卸地安装于底座，遮蔽件用于与底座围合形成遮蔽腔，遮蔽件设置有匹配部，匹配部与底座围合形成与工件形状适配的工件让位口，工件让位口与遮蔽腔连通。上述的遮蔽装置，能够遮蔽具有三维造型的工件的局部，并可反复使用，从而成本较低。

主权项：1.一种遮蔽装置，用于在曝光显影工艺中局部遮蔽工件1，其特征在于，包括：底座100，设置有工件安置位110；遮蔽件200，可拆卸地安装于所述底座100，所述遮蔽件200与所述底座100围合形成遮蔽腔300，所述遮蔽件200设置有匹配部220，所述匹配部220与所述底座100围合形成与所述工件1形状适配的工件让位口400，所述工件让位口400与所述遮蔽腔300连通；所述遮蔽件200设置有两个并分别设置于所述底座100的两侧；所述遮蔽件200包括主体部210，所述匹配部220和所述主体部210为分体制造结构，所述匹配部220安装连接于所述主体部210；其中，所述底座100与所述工件1的底面所相对的底侧相对面130上设置反光片700，所述反光片700能将光线反射到所述工件1的底侧；所述底座100设置有与所述工件1形状适配的第一适配面140，所述匹配部220设置有与所述工件1形状适配的第二适配面221，所述第一适配面140和所述第二适配面221围合形成与所述工件1形状适配的所述工件让位口400；所述底座100包括主座体101和定位座102，所述主座体101和所述定位座102采用分体制造结构，所述定位座102安装于所述主座体101，所述定位座102设置有工件定位结构120；将所述底座100拆分成所述主座体101和所述定位座102，具有所述工件定位结构120的所述定位座102单独制造。

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权利要求：

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