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【发明授权】一种PT对称耦合微腔和磁微腔复合结构及其应用_江苏大学_202110796175.8 

申请/专利权人:江苏大学

申请日:2021-07-14

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN113608372B

主分类号:G02F1/09

分类号:G02F1/09

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.19#授权;2021.11.23#实质审查的生效;2021.11.05#公开

摘要:本发明提供了一种PT对称耦合微腔和磁微腔复合结构,整体为左右对称结构,包括设置在左右两侧的P层以及设置在中间的G层和L层,P层、G层及L层两两之间间隔设置;所述P层为耦合棱镜,G层和L层均为由具有磁光效应的介质层形成的耦合微腔,其中G层为增益介质层,而L层则为损耗介质层。此结构处于PT对称的极点状态时,具有极大的透射率,其透射率数值高达数千,能够将输入的弱光放大数千倍后透射出去,并且透射率大小还受所施加磁场的磁感应强度线性调控;可用于对光强或光信号的放大功能,或者用于通过弱磁场信号对强光场的信号调制功能。

主权项:1.一种PT对称耦合微腔和磁微腔复合结构,其特征在于:整体为对称结构,包括设置在两侧的P层以及设置在中间的G层和L层,P层、G层及L层两两之间间隔设置;所述P层为耦合棱镜,G层和L层均为由具有磁光效应的介质层形成的耦合微腔,其中G层为增益介质层,L层为损耗介质层;在使用时,G层和L层被施加垂直于其所在平面方向的磁场,且所述复合结构工作在PT对称的极点状态。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江苏大学 一种PT对称耦合微腔和磁微腔复合结构及其应用

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