申请/专利权人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司

申请日：2024-01-26

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117741837A

主分类号：G02B1/111

分类号：G02B1/111;G02B1/10

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种柔性耐弯折抗反射膜及其制备方法，该抗反射膜包括基材层以及形成于所述基材层外层的抗反射层，所述抗反射层包括至少一个第一折射率有机聚合物膜层和至少一个第二折射率有机聚合物膜层，其由所述基材层表面向外以H‑Lk或L‑H‑Lk的顺序交替堆叠；其中，H表示第一折射率有机聚合物膜层，L表示第二折射率有机聚合物膜层，k表示交替堆叠的膜层数量。本发明的iCVD工艺构建的多层有机聚合物抗反射薄膜的光学效果与传统物理气相沉积薄膜基本一致，并且其弹性理想、应力小，可以承受2mm曲率半径200000次以上的弯折，能克服传统物理气相沉积无机薄膜应力、脆性大、耐弯折性能差的弊端。

主权项：1.一种柔性耐弯折抗反射膜，其特征在于，包括基材层以及形成于所述基材层外层的抗反射层，所述抗反射层包括至少一个第一折射率有机聚合物膜层和至少一个第二折射率有机聚合物膜层，至少一个第一折射率有机聚合物膜层和至少一个第二折射率有机聚合物膜层由所述基材层表面向外以H-Lk或L-H-Lk的顺序交替堆叠；其中，H表示第一折射率有机聚合物膜层，L表示第二折射率有机聚合物膜层，k表示交替堆叠的膜层数量；其中，若干第一折射率有机聚合物膜层和若干第二折射率有机聚合物膜层均通过真空原位引发化学气相沉积工艺制备制得。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 柔性耐弯折抗反射膜及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD