申请/专利权人:淮安捷泰新能源科技有限公司
申请日:2023-11-29
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN117747702A
主分类号:H01L31/18
分类号:H01L31/18;H01L21/223;H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/068
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开
摘要:本发明公开了一种N‑TOPCon电池硼扩散方法、制备方法及电池、电池组件,属于TOPCON电池及组件技术领域,清洗后的硅片,采用PECVD工艺在正面沉积POLY层,并通入BH3,硼离子捕获电子形成硼单质,均匀分布在POLY层中,然后再对正面进行选择性制绒。本发明有益效果是:对清洗后的硅片进行正面POLY层沉积同时沉积硼单质,BH3在射频能量的引发下形成高能电子及硼离子,硼离子捕获电子形成硼单质,均匀的分布在POLY层中,形成掺杂;避免了高温环境激发放大硅基体内缺陷的情况,同时采用低温工艺,更节省能源。
主权项:1.N-TOPCon电池硼扩散方法,其特征在于,包括:清洗后的硅片,采用PECVD工艺在正面沉积POLY层,并通入BH3,硼离子捕获电子形成硼单质,均匀分布在POLY层中,然后再对正面进行选择性制绒。
全文数据:
权利要求:
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