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【发明公布】存储装置_铠侠股份有限公司_202310963288.1 

申请/专利权人:铠侠股份有限公司

申请日:2023-08-02

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117750876A

主分类号:H10N70/20

分类号:H10N70/20;H10N70/00;H10B63/00

优先权:["20220921 JP 2022-150282"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明的实施方式涉及一种存储装置。实施方式的存储装置具备:第1导电层;第2导电层;第3导电层;电阻变化层,设置在第1导电层与第2导电层之间;以及开关层,设置在第2导电层与第3导电层之间。在第1导电层与第3导电层之间设有第2导电层。开关层包含:至少一种第1物质,从选自由Cr、La、Ce、Y、Sc、Zr及Hf所组成的群中的至少一种元素的氧化物、至少一种元素的氮化物、及至少一种元素的氮氧化物所组成的群中选择;第2物质,包含选自由Te、Se、Sb、Bi、Ge及Sn所组成的群中的至少一种金属;以及至少一种第3物质,选自由第2物质的氧化物、第2物质的氮化物、及第2物质的氮氧化物所组成的群。

主权项:1.一种存储装置,具备:第1导电层;第2导电层;第3导电层;电阻变化层,设置在所述第1导电层与所述第2导电层之间;以及开关层,设置在所述第2导电层与所述第3导电层之间;在所述第1导电层与所述第3导电层之间设有所述第2导电层;且所述开关层包含:至少一种第1物质,从选自由铬Cr、镧La、铈Ce、钇Y、钪Sc、锆Zr及铪Hf所组成的群中的至少一种元素的氧化物、所述至少一种元素的氮化物、及所述至少一种元素的氮氧化物所组成的群中选择;第2物质,包含选自由碲Te、硒Se、锑Sb、铋Bi、锗Ge及锡Sn所组成的群中的至少一种金属;以及至少一种第3物质,选自由所述第2物质的氧化物、所述第2物质的氮化物、及所述第2物质的氮氧化物所组成的群。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 铠侠股份有限公司 存储装置

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