申请/专利权人：西安交通大学

申请日：2023-12-19

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117735980A

主分类号：C04B35/475

分类号：C04B35/475;C04B35/622;C04B35/645;C23C14/08;C23C14/35

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：一种磁控溅射用BNT靶材及利用热压法制备BNT靶材的方法，其中，靶材分子式为Bi0.45～0.55Na0.45～0.55TiO3,以Bi2O3、Na2CO3和TiO2为原料，各原料的摩尔质量比为：Bi2O3:Na2CO3:TiO2＝104.841～128.139:23.847～29.147:79.87；利用热压法制备磁控溅射用BNT靶材的方法，通过在烧结过程中施加一定压力，加速粉末颗粒的接触、扩散和流动等传质过程，能够降低烧结温度，有效控制Bi0.5Na0.5TiO3靶材中易挥发成分的组分变化，同时缩短烧结时间，节省靶材制备的时间成本，易于获得气孔率低、致密度达99％以上的Bi0.5Na0.5TiO3靶材；另外，利用模具成型机制，HP制备靶材的收缩率为0％，实现了大尺寸靶材尺寸的精确控制；制备工艺简单，制备的大尺寸钛酸铋钠陶瓷靶材致密无开裂。

主权项：1.一种磁控溅射用BNT靶材，其特征在于，分子式为Bi0.45～0.55Na0.45～0.55TiO3,以Bi2O3、Na2CO3和TiO2为原料，各原料的摩尔质量比为：Bi2O3:Na2CO3:TiO2＝104.841～128.139:23.847～29.147:79.87。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 西安交通大学 一种磁控溅射用BNT靶材及利用热压法制备BNT靶材的方法

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