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【发明公布】石墨产品的膜层制备方法_湖南德智新材料有限公司_202410137596.3 

申请/专利权人:湖南德智新材料有限公司

申请日:2024-01-31

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117737686A

主分类号:C23C16/02

分类号:C23C16/02;C23C16/04;C23C16/56;C23C16/52;C04B41/81

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本申请涉及气相沉积技术领域,具体涉及一种石墨产品的膜层制备方法,解决了在气相沉积过程中,较高的温度会导致石墨的晶格结构发生变化,进而导致石墨产品发生变形的问题。石墨产品的膜层制备方法包括:制备第一石墨产品,所述第一石墨产品具有上表面和下表面;在所述第一石墨产品的上表面制备应力释放槽,得到第二石墨产品;对所述第二石墨产品进行膜层沉积,得到第三石墨产品;对所述第三石墨产品的上表面进行第二材料去除处理,得到第四石墨产品,其中,所述第四石墨产品的上表面不具有所述应力释放槽。通过在第一石墨产品的上表面制备应力释放槽,可以在膜层沉积的过程中,减少应力集中,从而减小第二石墨产品在膜层沉积过程的形变。

主权项:1.一种石墨产品的膜层制备方法,其特征在于,应用于对石墨基材的部分区域进行膜层沉积的工艺;所述石墨产品的膜层制备方法包括:制备第一石墨产品,所述第一石墨产品具有上表面和下表面;在所述第一石墨产品的上表面制备应力释放槽,得到第二石墨产品,其中,所述应力释放槽的水平截面形状包括环形和三角形;对所述第二石墨产品进行膜层沉积,得到第三石墨产品;对所述第三石墨产品的上表面进行第二材料去除处理,得到第四石墨产品,其中,所述第四石墨产品的上表面不具有所述应力释放槽。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 湖南德智新材料有限公司 石墨产品的膜层制备方法

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