申请/专利权人：精工爱普生株式会社

申请日：2023-09-19

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117732288A

主分类号：B01D71/70

分类号：B01D71/70;B01D67/00;B01D53/22

优先权：["20220922 JP 2022-150921"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明提供一种作为目标的气体的选择分离性以及气体透过性良好的气体分离膜以及其制造方法。该气体分离膜具有：树脂层，其由有机聚硅氧烷构成；改性层，其被设置在所述树脂层的一个面上，且具有被导入到所述一个面上的官能基团，通过从所述改性层的表面侧照射X射线的X射线光电子能谱，从而取得包含Si2p峰的范围的XPS光谱，在对所述Si2p峰进行波形分离时，Si‑O峰的面积比率为所述Si2p峰的2％以上且30％以下。

主权项：1.一种气体分离膜，其特征在于，具有：树脂层，其由有机聚硅氧烷构成；改性层，其被设置在所述树脂层的一个面上，且具有被导入到所述一个面上的官能基团，通过从所述改性层的表面侧照射X射线的X射线光电子能谱，从而取得包含Si2p峰的范围的XPS光谱，在对所述Si2p峰进行波形分离时，Si-O峰的面积比率为所述Si2p峰的2％以上且30％以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 精工爱普生株式会社 气体分离膜以及气体分离膜的制造方法

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