申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2023-09-22

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117736362A

主分类号：C08F212/14

分类号：C08F212/14;C08F8/28;G03F7/039;G03F7/004;G03F1/22;G03F1/56

优先权：["20220922 JP 2022-150817"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物、抗蚀剂图案形成方法、及空白掩膜。本发明提供能形成可形成有极高的孤立间距分辨性，LER小，矩形性优异，显影负载及残渣缺陷的影响受抑制且蚀刻耐性优良、制成的抗蚀剂图案的图案崩塌受抑制的图案的抗蚀剂膜的聚合物、使用了此聚合物的化学增幅正型抗蚀剂组成物、使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法、及使用前述化学增幅正型抗蚀剂组成物的空白掩膜。一种聚合物，其特征为：含有键结于主链的芳香族性羟基的结构单元中的前述芳香族性羟基被下式ALU‑1表示的酸不稳定基团保护，因酸作用而脱保护并成为碱可溶性。

主权项：1.一种聚合物，其特征为：含有键结于主链的芳香族性羟基的结构单元中的该芳香族性羟基被下式ALU-1表示的酸不稳定基团保护，因酸作用而脱保护并成为碱可溶性， 式ALU-1中，RL1～RL3各自独立地为氢原子、或碳数1～6的烃基，不含芳香族环状结构，RL1～RL3中的任2个亦可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环状结构，RL4为氢原子、卤素原子、硝基、或亦可含有杂原子的碳数1～6的烃基，n1为0或1的整数，n2于n1＝0时为0～5的整数，于n1＝1时为0～7的整数，链线表示和含有键结于聚合物的主链的芳香族性羟基的单元的芳香族性羟基的氧原子间的键结。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物、抗蚀剂图案形成方法、及空白掩膜

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD