申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2022-09-22

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117751284A

主分类号：G01N21/956

分类号：G01N21/956;G03F1/84;G06T7/00;G01N21/88

优先权：["20210929 US 17/489,665"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.22#公开

摘要：本发明提供用于检测掩模上的缺陷的方法及系统。一种方法包含通过模拟产生多裸片掩模的数据库参考图像且通过比较所述数据库参考图像与通过成像子系统针对多个裸片中的第一者产生的所述掩模的图像而检测所述掩模上的第一缺陷。所述方法还包含通过将通过产生所述数据库参考图像而学习的所述成像子系统的一或多个参数应用到通过所述成像子系统产生的除所述第一多个裸片之外的所述多个裸片的一或多者的图像而产生所述多个裸片中的所述第一者的裸片参考图像。另外，所述方法包含通过比较所述裸片参考图像与通过所述成像子系统针对所述多个裸片中的所述第一者产生的所述掩模的所述图像而检测所述掩模上的第二缺陷。

主权项：1.一种经配置用于检测掩模上的缺陷的系统，其包括：成像子系统，其经配置以产生上面形成有多个裸片的掩模的图像；及计算机子系统，其经配置用于：通过从所述掩模的设计模拟所述掩模的物理版本且模拟通过所述成像子系统从所述掩模的所述经模拟物理版本产生的所述掩模的所述物理版本的图像而产生所述掩模的数据库参考图像；通过比较所述数据库参考图像与通过所述成像子系统针对所述多个裸片中的第一者产生的所述掩模的图像而检测所述掩模上的第一缺陷；通过将通过产生所述数据库参考图像而学习的所述成像子系统的一或多个参数应用到通过所述成像子系统产生的除所述多个裸片中的所述第一者之外的所述多个裸片的一或多者的图像而产生所述多个裸片中的所述第一者的裸片参考图像；及通过比较所述裸片参考图像与通过所述成像子系统针对所述多个裸片中的所述第一者产生的所述掩模的所述图像而检测所述掩模上的第二缺陷。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科磊股份有限公司 用于多裸片掩模的缺陷检测

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