申请/专利权人：芝浦机械电子装置株式会社

申请日：2023-09-12

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117732823A

主分类号：B08B9/34

分类号：B08B9/34;B08B9/30;B08B13/00;F26B21/00;F26B5/04;F26B3/28

优先权：["20220922 JP 2022-151190"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明抑制清洗液进入门的内部空间。实施方式的晶片收纳容器清洗装置为对晶片收纳容器的门进行清洗的晶片收纳容器清洗装置，所述晶片收纳容器的门在其中一面具有钥匙孔，所述钥匙孔通过在插入了闩锁钥匙的状态下旋转而能够切换与晶片收纳容器主体的锁定解锁，在侧面形成有在所述锁定时供闩锁能够突出的突出用孔，所述晶片收纳容器清洗装置包括：门保持部，对所述门进行保持；清洗液喷嘴，对所述门的另一面供给清洗液；以及气体喷嘴，在至少从所述清洗液喷嘴向所述门供给所述清洗液时，产生阻碍所述清洗液从所述突出用孔侵入的气体的流动。

主权项：1.一种晶片收纳容器清洗装置，为对晶片收纳容器的门进行清洗的晶片收纳容器清洗装置，所述晶片收纳容器的门在其中一面具有钥匙孔，所述钥匙孔通过在插入了闩锁钥匙的状态下旋转而能够切换与晶片收纳容器主体的锁定解锁，在侧面形成有在所述锁定时供闩锁能够突出的突出用孔，所述晶片收纳容器清洗装置的特征在于包括：门保持部，对所述门进行保持；清洗液喷嘴，对所述门的另一面供给清洗液；以及气体喷嘴，在至少从所述清洗液喷嘴向所述门供给所述清洗液时，产生阻碍所述清洗液从所述突出用孔侵入的气体的流动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 芝浦机械电子装置株式会社 晶片收纳容器清洗装置

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