申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2023-09-19

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117736128A

主分类号：C07C381/12

分类号：C07C381/12;G03F7/004;C08F212/14;C08F220/22;C08F220/18;C08F220/20;G03F1/56;G03F7/20;C07C309/12;C07C303/32;C07C25/18;C07C17/00;C07D333/76;C07D307/93

优先权：["20220920 JP 2022-149192"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、EL、LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成时图案崩塌耐性仍强且蚀刻耐性亦优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐型单体，以及提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐型单体，以下式a1或a2表示。

主权项：1.一种鎓盐型单体，以下式a1或a2表示； 式中，n1为0或1；n2为1～6的整数；n3为0～4的整数；但，n1＝0时，n2+n3≤4，n1＝1时，n2+n3≤6；n4为0～4的整数；RA分别独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R分别独立地为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；LA及LB分别独立地为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；XL分别独立地为也可含有杂原子的碳数1～40的亚烃基；Q1及Q2分别独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基；Q3及Q4分别独立地为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基；R1～R5分别独立地为也可含有杂原子的碳数1～30的烃基；又，R1及R2也可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

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