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【发明授权】一种自供电偏振可见光探测器及制备方法与应用_华南理工大学_202111151502.0 

申请/专利权人:华南理工大学

申请日:2021-09-29

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN113972298B

主分类号:H01L31/108

分类号:H01L31/108;H01L31/02;H01L31/0232;H01L31/18

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2022.02.15#实质审查的生效;2022.01.25#公开

摘要:本发明公开了一种自供电偏振可见光探测器及制备方法与应用,所述自供电偏振可见光探测器包括从下到上依次排布的衬底、缓冲层、功能层、SiO2隔离层和金属电极层,其中:缓冲层为从下到上依次排布的AlN层、AlGaN层和GaN层;功能层包括InGaN层、石墨烯层和GeS2层,石墨烯层作为GeS2层和InGaN层之间的电子传输层;SiO2隔离层在InGaN层上;金属电极层分别在GeS2层和InGaN层上。本发明通过在InGaN层上转移石墨烯并磁控溅射沉积GeS2薄膜形成异质复合薄膜,可以有效提高可见光探测性能,在提高器件的光电流与响应度的同时,能有效限制器件的暗电流与噪声,实现偏振选择探测。

主权项:1.一种自供电偏振可见光探测器,其特征在于,包括从下到上依次排布的衬底、缓冲层、功能层、SiO2隔离层和金属电极层,其中:所述缓冲层为从下到上依次排布的AlN层、AlGaN层和GaN层;所述功能层包括InGaN层、石墨烯层和GeS2层,石墨烯层作为GeS2层和InGaN层之间的电子传输层;所述SiO2隔离层在所述InGaN层上;所述金属电极层分别在所述GeS2层和所述InGaN层上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华南理工大学 一种自供电偏振可见光探测器及制备方法与应用

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