申请/专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司

申请日：2021-08-13

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN113649509B

主分类号：B21J5/08

分类号：B21J5/08;B21C1/16;B21J5/06;B23P15/00;C23C14/35;C21D9/00;C22F1/08

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2021.12.03#实质审查的生效;2021.11.16#公开

摘要：本发明提供一种铜靶材及其制备方法，所述制备方法包括依次进行的切料、第一锻伸、第一热处理、第二锻伸、第二热处理、冷锻、第三热处理、压制、第四热处理与抛光；所述第一热处理与第二热处理的温度分别为290‑310℃；所述第三热处理与第四热处理的温度分别为250‑270℃。本发明提供的制备方法减少了铜靶材内部缺陷，避免了晶粒组织异常现象，提升了晶粒细化程度，进而改善了溅射薄膜的厚度分布均匀性，提升了溅射速率和镀膜质量。

主权项：1.一种铜靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：1切料：准备直径为170-180mm，长度为190-210mm的第一圆柱体铜靶坯；2第一锻伸：在890-910℃下预热，锻打成边长为145-155mm的正方体铜靶坯，水冷后墩粗至铜靶坯长度为100-120mm，再拉拔至铜靶坯长度为210-230mm，其中的墩粗与拉拔交替重复进行至少3次；3第一热处理：在290-310℃下热处理25-35min，之后进行水冷；4第二前锻伸：在890-910℃下预热，锻打成边长为145-155mm的正方体铜靶坯，水冷后墩粗至铜靶坯长度为100-120mm，再拉拔至铜靶坯长度为210-230mm，其中的墩粗与拉拔交替重复进行至少3次；5第二后锻伸：锻打成长度为220-230mm的第二圆柱体铜靶坯，之后进行水冷；6第二热处理：在290-310℃下热处理25-35min，之后进行水冷；7冷锻墩粗：在万吨油压机中墩粗成长度为100-110mm的第三圆柱体铜靶坯；8冷锻拉拔：在万吨油压机中拉拔成长度为220-230mm的第四圆柱体铜靶坯；9第三热处理：在250-270℃下热处理25-35min，之后进行水冷；10切除：切除第四圆柱体铜靶坯两端开裂的料头，得到长度为190-210mm的第五圆柱体铜靶坯；11静压：在油压机中静压成长度为110-120mm的第六圆柱体铜靶坯；12压延：在压延机中压延成长度为20-22mm的第七圆柱体铜靶坯；13第四热处理：在250-270℃下热处理25-35min，之后进行水冷；14后处理：将铜靶材校平至平面度≤1mm，再抛光至粗糙度≤1.6μm；采用异丙醇对铜靶材进行超声清洗，之后进行真空干燥，且真空度≤0.01Pa，最后将铜靶材进行真空包装。

全文数据：

权利要求：

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