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【发明授权】45°硅基反射镜及其制作方法_苏州苏纳光电有限公司_202210237801.4 

申请/专利权人:苏州苏纳光电有限公司

申请日:2022-03-11

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN114594540B

主分类号:G02B5/08

分类号:G02B5/08

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2022.06.24#实质审查的生效;2022.06.07#公开

摘要:本发明公开了一种45°硅基反射镜及其制作方法。所述制作方法包括:使100晶面的硅片的表面沿110方向定向腐蚀产生倾斜面以及沿100方向定向腐蚀产生平行面,获得反射镜集合体;从所述反射镜集合体上切割分离获得反射镜前体;将所述反射镜前体中倾斜面的粗糙度等级抛光至镜面级;从抛光后的所述反射镜前体中切割分离获得45°硅基反射镜。本发明提供的制作方法通过腐蚀,先得到45°的基础面,再通过冷加工的方法,将45°斜面抛光至镜面级,弥补了目前的技术不足,大大提升了硅基反射镜的反射率,工艺过程以及反射镜的结构简单,显著降低了制作成本,满足了广泛应用的需求。

主权项:1.一种45°硅基反射镜的制作方法,其特征在于,包括:1)使100晶面的硅片的表面沿110方向定向腐蚀产生倾斜面以及沿100方向定向腐蚀产生平行面,获得反射镜集合体;2)沿所述倾斜面以及平行面的相交线并垂直于所述硅片进行第一切割,产生第一切割面;沿相邻两个倾斜面的中间线并垂直于所述硅片进行第二切割,产生第二切割面;将相邻所述第一切割面与第二切割面之间的长条状结构作为反射镜前体;3)使多个所述反射镜前体固定于夹持具中,并使多个所述反射镜前体的倾斜面位于同一抛光平面中;对所述抛光平面进行减薄抛光至多个所述倾斜面的粗糙度等级均为镜面级;其中,所述夹持具包括长条状的夹持口,所述夹持口包括相互垂直的第一夹持面和第二夹持面,所述第一夹持面与所述第二切割面相匹配,所述第二夹持面与所述反射镜前体的底面相匹配;以及,4)从抛光后的所述反射镜前体中切割分离获得45°硅基反射镜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州苏纳光电有限公司 45°硅基反射镜及其制作方法

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