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【发明授权】用于对型坯进行光学检查的装置_伊莫拉SACMI机械合作公司_201980088514.8 

申请/专利权人:伊莫拉SACMI机械合作公司

申请日:2019-12-12

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN113631350B

主分类号:B29C49/80

分类号:B29C49/80;B29C49/78;B29C49/06;B29L31/00;B29K67/00

优先权:["20181214 IT 102018000011107"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2021.11.26#实质审查的生效;2021.11.09#公开

摘要:一种用于对型坯2进行光学检查的装置1,包括:发光器3,其被构造为发出指向位于检查位置10处的型坯2的光束;探测器4,其被构造为捕获介于发光器3与探测器4之间的型坯2的图像10,其中发光器3包括发射偏振滤光器32,其被构造为产生偏振光束,并且其中探测器4包括接收偏振滤光器41,其被构造为接收偏振光束。

主权项:1.一种用于对型坯进行光学检查的装置,其包括:-发光器,其包括被构造为发出指向位于检查位置处的所述型坯的光束的光源;-探测器,其包括被构造为捕获位于所述检查位置处的所述型坯的图像的摄像机,其中所述型坯在所述检查位置处操作性地介于所述发光器与所述探测器之间,其中,所述发光器包括发射偏振滤光器,其被构造为拦截所述光源发出的所述光束并且产生偏振光束,并且其中所述探测器包括接收偏振滤光器,其被构造为接收所述偏振光束,使得所述型坯在所述检查位置处操作性地介于所述发射偏振滤光器与所述接收偏振滤光器之间;自学习系统;处理单元,所述处理单元包括:存储器,其包含有参考数据集;处理器,其被编程为基于所述参考数据集来处理所述探测器捕获的所述图像,从而得出与所述型坯的缺陷有关的诊断指示,使得所述诊断指示区分有缺陷类型的物品和无缺陷类型的物品,所述处理单元由所述自学习系统通过所述无缺陷类型的物品的样本来训练,其中,所述处理单元被构造为:-基于所述参考数据集来处理所述探测器捕获的所述图像,从而从所述图像中得出多个图像特征的值;-处理所述多个图像特征的值,以得出与所述型坯的所述缺陷有关的所述诊断指示;-生成通过所述多个图像特征的值并且基于所述参考数据集重建的图像;-通过将所述探测器捕获的所述图像与所述重建图像进行比较来得出与所述型坯的缺陷有关的诊断指示。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 伊莫拉SACMI机械合作公司 用于对型坯进行光学检查的装置

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