申请/专利权人:株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
申请日:2021-02-26
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN113889152B
主分类号:G11B5/187
分类号:G11B5/187;G11B5/11
优先权:["20200701 JP 2020-113972"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.03.22#授权;2022.01.21#实质审查的生效;2022.01.04#公开
摘要:提供能提高记录密度的磁头及磁记录装置。磁头包括第1磁极、第2磁极及设置于第1磁极与第2磁极之间的层叠体。层叠体包括第1磁性层、设置于第1磁性层与第2磁极之间的第2磁性层、设置于第2磁性层与第2磁极之间的第3磁性层、设置于第1磁性层与第2磁性层之间的第1非磁性层、设置于第2磁性层与第3磁性层之间的第2非磁性层及设置于第1磁极与第1磁性层之间的第3非磁性层。沿第2方向的第1磁极的第1磁极长度比沿第2方向的第2磁极的第2磁极长度短,第2方向相对于从第1磁性层向第2磁性层的第1方向垂直且沿第1磁极的介质对置面。沿第3方向的第1磁性层的长度比沿第3方向的第2磁性层的长度长,第3方向相对于第1方向垂直。
主权项:1.一种磁头,具备:第1磁极;第2磁极;以及层叠体,设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间,所述层叠体包括:第1磁性层;第2磁性层,设置于所述第1磁性层与所述第2磁极之间;第3磁性层,设置于所述第2磁性层与所述第2磁极之间;第1非磁性层,设置于所述第1磁性层与所述第2磁性层之间;第2非磁性层,设置于所述第2磁性层与所述第3磁性层之间;以及第3非磁性层,设置于所述第1磁极与所述第1磁性层之间,沿着第2方向的所述第1磁极的第1磁极长度比沿着所述第2方向的所述第2磁极的第2磁极长度短,该第2方向相对于从所述第1磁性层向所述第2磁性层的第1方向垂直且沿着所述第1磁极的介质对置面,沿着第3方向的所述第1磁性层的第1磁性层长度比沿着所述第3方向的所述第2磁性层的第2磁性层长度长,该第3方向相对于所述第1方向垂直,所述第3方向沿着所述第2方向。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 磁头及磁记录装置
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