申请/专利权人：日本化学工业株式会社

申请日：2019-03-20

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN111868066B

主分类号：C07F19/00

分类号：C07F19/00;C01B25/08;H01L29/06;C07F7/08;C07F9/50

优先权：["20180327 JP 2018-060922"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2020.11.17#实质审查的生效;2020.10.30#公开

摘要：本发明的硅烷基膦化合物由式1表示，砷含量为1ppm以下。本发明的硅烷基膦化合物的制造方法中，将碱性化合物、硅烷基化剂和膦混合得到含有硅烷基膦化合物的溶液，从该溶液中除去溶剂得到硅烷基膦化合物的浓缩液，在对该浓缩液进行蒸馏，其中，将膦的砷含量制成以体积基准的胂换算为1ppm以下。另外，本发明的InP量子点的制造方法中，使用砷的含量以质量基准计为1ppm以下的式1所示的硅烷基膦化合物作为磷源。R的定义参照说明书

主权项：1.一种硅烷基膦化合物作为用于InP量子点的原料的应用，其特征在于，由下述式1表示，砷含量以质量基准计为1ppm以下， R分别独立地为碳原子数1以上5以下的烷基或碳原子数6以上10以下的芳基。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日本化学工业株式会社 硅烷基膦化合物、硅烷基膦化合物的制造方法以及InP量子点的制造方法

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