申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司

申请日：2023-08-31

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN220651063U

主分类号：G03F9/00

分类号：G03F9/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权

摘要：本实用新型提供一种调焦调平装置及光刻机，照明模块反射光源模块发出的光束进入投影光栅模块，并经投影光栅模块反射或者透过后进入第一成像模块进而照射到待测目标上，光束经待测目标反射后依次经过第二成像模块、探测光栅模块和中继模块后被探测模块接收。也即，照明模块采用反射式光路、投影光栅模块采用反射式投影光栅或者透过式投影光栅，从而避免了使用现有调焦调平装置中存在的造成色差的透射型元件，从而有效地抑制调焦调平装置测量待测目标多层膜表面时的测量高度偏差和膜系波动时导致的测量随机误差等工艺适应性误差问题。

主权项：1.一种调焦调平装置，其特征在于，包括：光源模块、照明模块、投影光栅模块、第一成像模块、第二成像模块、探测光栅模块、中继模块和探测模块；所述光源模块发出的光束经所述照明模块反射后进入所述投影光栅模块，并经所述投影光栅模块反射或者透过后经所述第一成像模块照射到待测目标上，所述光束经所述待测目标反射后依次经过所述第二成像模块、所述探测光栅模块和所述中继模块后被所述探测模块接收。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 调焦调平装置及光刻机

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