申请/专利权人：之江实验室;浙江大学

申请日：2021-10-28

公开（公告）日：2024-03-26

公开（公告）号：CN114019766B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.26#授权;2022.02.25#实质审查的生效;2022.02.08#公开

摘要：本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。

主权项：1.一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，包含激发光和抑制光两路光；其特征在于：所述激发光路如下：激发光源（1）经第一三角棱镜（2）的第一高反面反射到连续变形镜DM（3）上，DM（3）对入射激发光进行波前像差矫正后，出射光再经第一三角棱镜（2）第二高反面反射到反射镜（4），反射镜（4）出射的激发光入射到数字微镜阵列DMD（5），DMD（5）对入射光进行振幅调制，产生千束独立可控子光斑阵列，该光斑阵列通过由第一凸透镜（6）和第二凸透镜（7）组成的4F系统成像到微透镜阵列MLA（8）前焦面，通过MLA（8）对各个子光斑进行聚焦产生千束焦点阵列，该焦点阵列再依次通过第一套筒透镜（9）、第一二向色镜（14）反射、第二二向色镜（15）透射和物镜（16），最终成像到物镜（16）焦平面上形成千束激发点阵；所述抑制光路如下：抑制光源（10）经第二三角棱镜（11）的第一高反面反射到空间光调制器SLM（12）上，SLM（12）对入射激发光进行相位调制产生四束光，四束光经第二三角棱镜（11）的第二高反面反射到第二套筒透镜（13），四束光经第二套筒透镜（13）后再从第一二向色镜（14）透射与激发光进行合束，合束后四束抑制光和激发光一起通过二向色镜（15）透射，并经过物镜（16）成像到其焦平面上，其中四束抑制光以相等干涉角在物镜（16）焦平面上进行干涉产生干涉点阵，干涉点阵暗斑与激发光点阵在空间重合形成千束PPI阵列，结合位移台（17）的移动实现三维复杂结构的高通量刻写，产生的荧光依次经过物镜（16）、第二二向色镜（15）反射和第三凸透镜（18）成像到CCD（19）上。

全文数据：

权利要求：

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