申请/专利权人：松山湖材料实验室

申请日：2023-11-22

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117784203A

主分类号：G01T1/202

分类号：G01T1/202;B82Y40/00;B82Y30/00;B82Y20/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明涉及闪烁晶体技术领域，具体提供一种微纳结构闪烁体及其制备方法。微纳结构闪烁体包括：闪烁晶体层和位于所述闪烁晶体层表面的微纳结构层；所述微纳结构层包括介质层；所述介质层设置于所述闪烁晶体层表面，所述介质层具有阵列排布的若干微纳结构，所述微纳结构在所述介质层的厚度方向上延伸并贯穿所述介质层，且截止于所述介质层与所述闪烁晶体层的界面；所述微纳结构的底部暴露所述闪烁晶体层的表面。本发明提供的微纳结构闪烁体及其制备方法，有利于简化微纳结构闪烁体制备的流程，降低小规模定制生产的成本。

主权项：1.一种微纳结构闪烁体，其特征在于，包括：闪烁晶体层和位于所述闪烁晶体层表面的微纳结构层；所述微纳结构层包括介质层；所述介质层设置于所述闪烁晶体层表面，所述介质层具有阵列排布的若干微纳结构，所述微纳结构在所述介质层的厚度方向上延伸并贯穿所述介质层，且截止于所述介质层与所述闪烁晶体层的界面；所述微纳结构的底部暴露所述闪烁晶体层的表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 松山湖材料实验室 微纳结构闪烁体及其制备方法

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