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【发明公布】一种曲面随形电阻阻值校正方法_中国电子科技集团公司第二十九研究所_202410220330.5 

申请/专利权人:中国电子科技集团公司第二十九研究所

申请日:2024-02-28

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117787189A

主分类号:G06F30/392

分类号:G06F30/392;G06F115/12

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要:本发明公开了一种曲面随形电阻阻值校正方法,包括:S1:选定制备方法并设定工艺参数,根据选定的制备方法和工艺参数,设计平面尺寸获得方阻平面尺寸的参数;S2:根据当前模型的三维曲面的指定位置,利用壳建模的方式,设计曲面随形电阻形状特征,获得对应的曲面方程;S3:根据曲面方程计算曲面随形电阻长宽比,获得长宽比的积分形式;S4:利用平面膜状电阻的阻值计算方式,计算曲面随形电阻的阻值。S5:将计算得到的曲面随形电阻的阻值与目标阻值进行对比,基于设定的差异阈值,对曲面随形电阻形状特征进行修正。本发明相较于传统试阻方式,实现了准确、高效、普适地对基于给定阻值的任意曲面随形电阻形状特征的设计。

主权项:1.一种曲面随形电阻阻值校正方法,其特征在于,包括:S1:选定制备方法并设定工艺参数,根据选定的制备方法和工艺参数,设计平面尺寸获得方阻平面尺寸的参数;S2:根据当前模型的三维曲面的指定位置,利用壳建模的方式,设计曲面随形电阻形状特征,获得对应的曲面方程;S3:根据曲面方程计算曲面随形电阻长宽比,获得长宽比的积分形式;S4:基于积分形式的长宽比,利用平面膜状电阻的阻值计算方式,计算曲面随形电阻的阻值。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国电子科技集团公司第二十九研究所 一种曲面随形电阻阻值校正方法

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