申请/专利权人：易安爱富科技有限公司

申请日：2023-08-22

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117784538A

主分类号：G03F7/42

分类号：G03F7/42

优先权：["20220929 KR 10-2022-0124081"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.10#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明涉及一种用于剥离IGZO基板的光刻胶的组合物、其制备方法及半导体器件。根据本发明，可以防止IGZO基板的腐蚀，并且可以改善光刻胶剥离性能。

主权项：1.一种IGZO基板用剥离液组合物，其中，包含：两种以上的有机溶剂，以及以化学式1或化学式2表示的胺化合物；[化学式1]R1-NH2在上述化学式1中，所述R1为羟基C1-6烷基或羟基C1-4烷氧基C1-4烷基，所述烷基或烷氧基为直链或支链；[化学式2] 在上述化学式2中，X为N或C，R2为氢原子、羟基C1-6烷基或羟基C1-4烷氧基C1-4烷基，所述烷基或烷氧基为直链或支链。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 易安爱富科技有限公司 IGZO基板用剥离液组合物、其制备方法及半导体器件

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