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【发明公布】基于变容二极管的S波段可调谐有源频率选择表面_华南理工大学_202410146841.7 

申请/专利权人:华南理工大学

申请日:2024-02-02

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117791169A

主分类号:H01Q15/00

分类号:H01Q15/00;H01Q1/50

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要:本发明公开了一种基于变容二极管的S波段可调谐有源频率选择表面,包括多个结构相同且周期排布的阵列单元,每个阵列单元均设有介质层、设于介质层顶面的第一金属层以及设于介质层底面的第二金属层,三者正对设置;介质层中心贯设有穿孔,穿孔内设有导线;第一金属层包括设于中央的方形金属片和设于边缘的方环形金属片,方形金属片和方环形金属片之间形成方环形缝隙,方环形缝隙间设有变容二极管,方形金属片和方环形金属片分别与变容二极管连接;第二金属层包括馈电网格以及设于馈电网格之间的定值电感;导线一端连接第一金属层的方形金属片,导线另一端连接第二金属层的馈电网格,相邻阵列单元的方环形金属片相连,相邻阵列单元的馈电网格相连。

主权项:1.一种基于变容二极管的S波段可调谐有源频率选择表面,其特征在于,包括多个结构相同且周期排布的阵列单元,每个阵列单元均设有介质层、设于介质层顶面的第一金属层以及设于介质层底面的第二金属层,第一金属层、介质层、第二金属层正对设置;介质层中心贯设有穿孔,穿孔内设有导线;第一金属层包括设于中央的方形金属片和设于边缘的方环形金属片,方形金属片和方环形金属片之间形成方环形缝隙,方环形缝隙间设有变容二极管,方形金属片和方环形金属片分别与变容二极管连接;第二金属层包括馈电网格以及设于馈电网格之间的定值电感;导线一端连接第一金属层的方形金属片,导线另一端连接第二金属层的馈电网格,相邻阵列单元的方环形金属片相连,相邻阵列单元的馈电网格相连。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华南理工大学 基于变容二极管的S波段可调谐有源频率选择表面

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