申请/专利权人：株式会社日立制作所

申请日：2022-09-01

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117795621A

主分类号：G21G1/10

分类号：G21G1/10;G21G4/08;G21K5/08

优先权：["20211125 JP 2021-191306"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明提供能够提高放射性核素的制造量、在需要放射性核素时进行余量或缺量小的供给的放射性核素制造系统及放射性核素制造方法。放射性核素制造系统1具备生成粒子线11的粒子线照射装置10、通过粒子线11的照射而生成放射性核素的多个靶40以及从靶40分离精制放射性核素的分离精制装置30，多个靶40被划分为照射靶组40a和精制靶组40b，照射靶组40a接受通过粒子线11的照射而生成放射性核素的照射处理，精制靶组40b接受从靶40分离精制放射性核素的分离精制处理，照射靶组40a与精制靶组40b相互并行地被处理。放射性核素制造方法中，将照射靶组40a和精制靶组40b相互并行地处理而制造放射性核素。

主权项：1.一种放射性核素制造系统，是生成放射性核素并进行分离精制的放射性核素制造系统，具备生成粒子线的粒子线照射装置、通过所述粒子线的照射而生成放射性核素的多个靶以及从所述靶分离精制放射性核素的分离精制装置；多个所述靶被划分为照射靶组和精制靶组，所述照射靶组接受通过所述粒子线的照射而生成放射性核素的照射处理，所述精制靶组接受从所述靶对放射性核素进行分离精制的分离精制处理，所述照射靶组与所述精制靶组相互并行地被处理。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社日立制作所 放射性核素制造系统及放射性核素制造方法

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