申请/专利权人：清华大学;同方威视技术股份有限公司

申请日：2023-12-29

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117812799A

主分类号：H05H9/00

分类号：H05H9/00;G21K5/04;H05H7/22;H05H7/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本公开提供了一种辐照剂量率控制方法，涉及辐照技术领域、加速器领域或其他领域。该方法用于包括微波源、电子枪和加速管的电子直线加速器，包括：在所述电子直线加速器出束时，监测用于指示改变出束参数的第一事件，其中，所述出束参数包括所述电子枪的脉冲及所述微波源的微波功率，所述第一事件通过辐照防护要求确定；响应于监测到所述第一事件，切断所述电子枪的脉冲，并将所述微波源的第一微波功率切换为第二微波功率，以使辐照安全边界的漏剂量率小于或等于第一预设阈值；其中，在所述第二微波功率下所述加速管内的暗电流水平小于或等于第二预设阈值。本公开还提供了辐照剂量率控制装置、加速器和辐照装置。

主权项：1.一种辐照剂量率控制方法，用于包括微波源、电子枪和加速管的电子直线加速器，所述方法包括：在所述电子直线加速器出束时，监测用于指示改变出束参数的第一事件，其中，所述出束参数包括所述电子枪的脉冲及所述微波源的微波功率，所述第一事件通过辐照防护要求确定；响应于监测到所述第一事件，切断所述电子枪的脉冲，并将所述微波源的第一微波功率切换为第二微波功率，以使辐照安全边界的漏剂量率小于或等于第一预设阈值；其中，在所述第二微波功率下所述加速管内的暗电流水平小于或等于第二预设阈值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 清华大学;同方威视技术股份有限公司 辐照剂量率控制方法、控制装置、加速器和辐照装置

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